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沿革・受賞履歴

沿革

1977年(昭和52年)10月 各研究機関の試作加工業として町田市にて創業
1978年(昭和53年)6月

株式会社光学技研を設立
1985年(昭和60年)7月

本社・工場を神奈川県厚木市(現在地)に移転
1996年(平成8年)3月 新技術事業団より「CLBO」通常実施権を許諾
1997年(平成9年)8月 NEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構)からの研究委託を受け、「フォトン計測・加工技術」プロジェクトに参画
JST(科学技術振興事業団)より新産業創出の委託を受ける
1999年(平成11年)1月 神奈川県より、「平成10年度神奈川県優良工場」の表彰を受ける
2000年(平成12年)9月 本社・工場の増築竣工
2001年(平成13年)5月 神奈川県厚木市長谷に長谷事業所を開設
2001年(平成13年)6月 神奈川県より、「かながわ中小企業モデル工場」の指定を受ける
2002年(平成14年)3月 ISO 9001 2000年版 認証取得
2003年(平成15年)3月 「低温特エタロン」の開発により、中小企業創造的活動促進法による認定を受ける
2004年(平成16年)7月 ISO 14001 1996年版 認証取得
2005年(平成17年)3月 「深紫外対応グラントムソン偏光制御素子」の開発により、中小企業創造的活動促進法による認定を受ける
2006年(平成18年)2月 「固体レーザー用波長変換素子」で“かながわスタンダード”に認定
2006年(平成18年)4月 経済産業省による「元気なモノ作り中小企業300社」に選定
2007年(平成19年)2月 「高出力レーザー対応光アイソレータ」の商品化により、経営革新計画の承認を受ける
2009年(平成21年)11月 “インベストかながわ”の認定を受けた長谷研究開発センター竣工(長谷事業所に増築)
2010年(平成22年)3月 ものづくり補助金による「深紫外域広帯域位相子」の試作開発
2013年(平成25年)5月 ものづくり補助金による「高フィネスエタロン」の開発
2013年(平成25年)9月 先端設備等投資促進事業費補助金により、最新鋭の成膜装置等を導入
2014年(平成26年)6月 新ものづくり補助金による「高精度大型波長板」の試作開発

受賞履歴

2001年(平成13年)11月 「高出力紫外光発生用CLBO波長変換素子の製造技術」の開発により、第18回神奈川工業技術開発大賞を受賞
2007年(平成19年)11月

「深紫外対応グラントムソン偏光制御素子」の開発により、第24回神奈川工業技術開発大賞を受賞
2008年(平成20年)3月

「深紫外対応グラントムソン偏光制御素子」の開発により、第20回中小企業優秀新技術・新製品優秀賞を受賞
2009年(平成21年)7月 「低湿度研磨加工技術(ULPEN)によるCLBO結晶の素子作製技術」で第3回ものづくり日本大賞、優秀賞を受賞
2011年(平成23年)4月

「紫外波長変換素子CLBO」でレーザー学会産業賞奨励賞を受賞
2012年(平成24年)7月

「CLBO非線形素子の技術」で第37回井上春成賞を受賞
2013年(平成25年)8月

「CLBO波長変換素子の実用化」で第11回産学官連携功労者表彰 日本学術会議会長賞を受賞

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